流化床气相沉积反应器
流化床喷雾纳米包覆
粉体原子层沉积设备
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成熟商业化设备
流化床反应器(FB-CVD)属于公司的明星产品之一,粉体材料在反应器内形成流化态,进行包覆、烧结等工艺。以流化床为反应器的CVD工艺具有包覆均匀等特点。适用于D50=2~1000μm的粉体材料流化。
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包覆物更加广泛
流化床喷雾纳米包覆(FB-SDNC)反应系统结合了流化床反应器技术与喷雾干燥技术:将可溶性包覆物溶解并进行液相喷雾,对在载气中实现完全流化态的物料进行包覆。两种技术相互融合,可实现过程效率、厚度可控的包覆沉积,从而提升产业化的材料包覆能力,达到很好的改性目的。
高深宽比的沉积工艺
FB-ALD是与国家特聘团队共同研发,基于化学气相沉积(CVD)的基础上开发的新型沉积方式,沉积物以单层原子的方式沉积在基体表面。因为FB-ALD可实现原子级精度的均匀沉积,特别适用于高深宽比的沉积工艺。FB-ALD技术已普遍应用于半导体、光伏等先进制造业,但传统FB-ALD工艺至适用于片材的沉积工艺。
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定制化产品
2025.03.21
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